Оборудование вакуумное. Установки для ионной имплантации. Общие технические требования
|
| Статус: |
действующий
|
| Английское название: |
Vacuum equipment. Apparatus for ion implantation. General technical requirements |
| Область приложения: |
Настоящий стандарт распространяется на установки для ионной имплантации, предназначенные для внедрения ионов твердых, газообразных и жидких веществ массой от 1,666 57х10 в ст. минус 27 до 217,534 67х10 в ст. минус 27 кг (от 1 до 131 а. е. м.), в том числе элементарных и многозарядных ионов бора, фосфора, цинка, мышьяка, селена и сурьмы с эквивалентной энергией ионов от 1,6х10 в ст. минус 15 до 1,6х10 в ст. минус 13 Дж (от 10 до 1200 кэВ) при изготовлении полупроводниковых приборов, интегральных схем и других изделий микроэлектроники |
| Дата введения: |
01.07.1983 |
| Дата публикации: |
04.05.1982 |
| Последнее измененение: |
12.09.2008 |
